【采购公告】大连理工大学分子束外延薄膜沉积系统单一来源采购公告
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| 项目名称 | 省份 | ||
| 业主单位 |
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业主类型 | |
| 总投资 | 建设年限 | ||
| 建设地点 | |||
| 审批机关 | 审批事项 | ||
| 审批代码 | 批准文号 | ||
| 审批时间 | 审批结果 | ||
| 建设内容 | |||
一、项目名称：分子束外延薄膜沉积系统
二、项目编号：DUTASD-F2020375
三、项目联系方式：
项目联系人：登录即可免费查看
项目联系电话：0411-84706297
四、拟采购的货物或者服务的说明：
本项目拟采购分子束外延薄膜沉积系统一套，主要由高真空泵抽系统、高精度蒸发控制系统和原位监控系统等部件组成。拟购置设备主要用于开展低成本、大规模、非制冷铅盐红外焦平面成像系统的研发，是制备红外光电探测器的最关键设备之一。利用该设备能够解决中红外铅盐光电功能薄膜均一性、增强材料光电性能、红外成像系统集成等的关键技术难题，研制第二代光导和第三代高性能光伏型铅盐焦平面阵列探测成像技术，解决卡脖子技术，满足民用市场等需求。以此套设备为核心搭建的红外探测制造平台，也将成为专业教学和科研基地，推动相关学科建设与发展。
五、谈判时间：2020年12月8日9：00
六、拟定的唯一供应商名称及其地址：
供应商名称：沈阳鹏程真空技术有限公司
供应商地址：辽宁省沈阳市沈河区凌云街35号
七、单一来源采购原因及相关说明：
大连理工大学红外物理与器件实验室拟开展非制冷铅盐红外焦平面成像方面的研究，主要研究解决中红外铅盐光电功能薄膜均一性、增强材料光电性能、红外成像系统集成等的关键技术难题，研制第二代光导和第三代高性能光伏型铅盐焦平面阵列探测成像技术。基于该项目研究内容，需采购一台超高温、高洁净分子束外延薄膜(MBE)薄膜沉积系统。该系统需满足以下技术要求：（1）束源炉温度不低于1600℃，以便CaF2 或BaF2 等高熔点材料的高效外延生长；（2）采用离子泵+吸附剂泵组合的主泵系统，避免常规MBE沉积系统中由钛升华泵引发的钛污染问题，以确保外延薄膜材料的纯度；（3）要求样片传递尺寸大于或者等于4英寸，以便将来技术成熟，能够把该设备转化为生产设备。经调研，国内某些公司的产品均采用离子泵+钛升华泵主泵抽系统，无法克服钛升华造成的腔体污染问题。同时，部分厂家生产的设备束源炉温度仅可达到1300℃ 左右、样片传递尺寸也均低于4英寸，不能满足研发需要。同时也调研了国外某些国家的设备厂商，虽然能够满足相同技术参数，但是国外设备采购价格偏高，因此优先考虑国产设备。而国内设备厂商，只有沈阳鹏程真空技术有限责任公司最新研发的分子束外延薄膜沉积系统能够满足本项目离子泵+吸附剂泵结构、束源炉温度不小于1600℃、样片传递尺寸4英寸的技术需求，只能采用单一来源采购方式进行采购。
八、其他补充事宜
无。
二、项目编号：DUTASD-F2020375
三、项目联系方式：
项目联系人：登录即可免费查看
项目联系电话：0411-84706297
四、拟采购的货物或者服务的说明：
本项目拟采购分子束外延薄膜沉积系统一套，主要由高真空泵抽系统、高精度蒸发控制系统和原位监控系统等部件组成。拟购置设备主要用于开展低成本、大规模、非制冷铅盐红外焦平面成像系统的研发，是制备红外光电探测器的最关键设备之一。利用该设备能够解决中红外铅盐光电功能薄膜均一性、增强材料光电性能、红外成像系统集成等的关键技术难题，研制第二代光导和第三代高性能光伏型铅盐焦平面阵列探测成像技术，解决卡脖子技术，满足民用市场等需求。以此套设备为核心搭建的红外探测制造平台，也将成为专业教学和科研基地，推动相关学科建设与发展。
五、谈判时间：2020年12月8日9：00
六、拟定的唯一供应商名称及其地址：
供应商名称：沈阳鹏程真空技术有限公司
供应商地址：辽宁省沈阳市沈河区凌云街35号
七、单一来源采购原因及相关说明：
大连理工大学红外物理与器件实验室拟开展非制冷铅盐红外焦平面成像方面的研究，主要研究解决中红外铅盐光电功能薄膜均一性、增强材料光电性能、红外成像系统集成等的关键技术难题，研制第二代光导和第三代高性能光伏型铅盐焦平面阵列探测成像技术。基于该项目研究内容，需采购一台超高温、高洁净分子束外延薄膜(MBE)薄膜沉积系统。该系统需满足以下技术要求：（1）束源炉温度不低于1600℃，以便CaF2 或BaF2 等高熔点材料的高效外延生长；（2）采用离子泵+吸附剂泵组合的主泵系统，避免常规MBE沉积系统中由钛升华泵引发的钛污染问题，以确保外延薄膜材料的纯度；（3）要求样片传递尺寸大于或者等于4英寸，以便将来技术成熟，能够把该设备转化为生产设备。经调研，国内某些公司的产品均采用离子泵+钛升华泵主泵抽系统，无法克服钛升华造成的腔体污染问题。同时，部分厂家生产的设备束源炉温度仅可达到1300℃ 左右、样片传递尺寸也均低于4英寸，不能满足研发需要。同时也调研了国外某些国家的设备厂商，虽然能够满足相同技术参数，但是国外设备采购价格偏高，因此优先考虑国产设备。而国内设备厂商，只有沈阳鹏程真空技术有限责任公司最新研发的分子束外延薄膜沉积系统能够满足本项目离子泵+吸附剂泵结构、束源炉温度不小于1600℃、样片传递尺寸4英寸的技术需求，只能采用单一来源采购方式进行采购。
八、其他补充事宜
无。
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