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采购光刻胶NR9600OPY发布日期:2024-06-04询价意向询价物品采购总量目标单价(元)所属行业其他备注图片光刻胶NR9600OPY面议面议半导体材料
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PMMA光刻胶、聚酰亚胺薄膜胶采购一、采购需求概况PMMA光刻胶、聚酰亚胺薄膜胶采购。具体需求请电话联系。二、合格供应商资格要求:合法经营资质,具备相应能力
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Y:±40mm(电动,数字设定)★具备膜厚、形貌测量功能光刻配套的光刻胶、显影液设备尺寸:≤700mm(宽度)按行业标准提供服务
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制1批=1050+33660+37800=E6*C6湖州东科电子石英股份有限公司光刻胶/1批=10760+89820=E7*C7苏州安光微电子科技有限公司化学试
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采购OC光刻胶发布日期:2024-05-27询价意向询价物品采购总量目标单价(元)所属行业其他备注图片OC光刻胶面议面议半导体材料----采购要求收货地
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2采购需求:2.1采购需求:紫外曝光机采购。用于集成电路工艺制造领域的光刻胶曝光,显影后可进行图形转移,要求具备0.8um的极限线宽及1um的套刻精度。2
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重庆芯联微电子有限公司光刻胶厚度量测设备,手动式宏观缺陷检测设备-国际招标公告上海机电设备招标有限公司受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2024
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径招忝烛公告签章重庆芯联微电子有限公司光刻胶厚度量测设备,手动式宏观缺陷检测设备-重新招标澄清或变更公告招标项目编号:0613
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MIF显影液:2.38%TMAH;5.3D检测:显微镜下的光学检测,需清晰可见提供的光刻胶的厚度、陡直度以及3D形貌。6.以上所有测试,供应商需提供工艺相关的技术文档
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UV固胶机设备数量:1台设备用途:主要用于对8英寸MEMS工艺中金属刻蚀前光刻胶固化工艺。资金到位或资金来源落实情况:资金已到位项目已具备招标条件的说明
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光刻胶、增粘剂采购需求公告一、项目概况:1、项目名称:光刻胶、增粘剂2、公告类型:采购需求公告3、公告发布时间:2024/5/17二、洽谈时间、地点1、时间
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项目基本情况1、项目编号:HKUSTGZ-24-BG004932、项目名称:科研用光刻胶竞价3、采购方式:网上竞价二、成交结果1、成交供应商:苏州义兰微电子有限公司2
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器件失效分析以及逆向产品开发中属于关键核心设备。扫描电镜可以对光刻胶的截面形貌和几何尺寸进行测量,对体硅结构的表征分析及刻蚀缺陷进行测量
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品目3设备名称:硫酸去胶湿台设备数量:1台设备用途:本设备适用于八寸晶圆光刻胶去除清洗工艺,采用H2SO4、H2O2和NH4OH溶液通过化学反应达到光刻胶去除
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光刻胶、亚硫酸氢钠类采购需求公告一、项目概况:1、项目名称:光刻胶、亚硫酸氢钠类2、公告类型:采购需求公告3、公告发布时间:2024/5/16二、洽谈时间、地点1
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重庆芯联微电子有限公司光刻胶厚度量测设备,手动式宏观缺陷检测设备-国际招标公告上海机电设备招标有限公司受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2024
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采购光刻胶AZP4620发布日期:2024-05-14询价意向询价物品采购总量目标单价(元)所属行业其他备注图片光刻胶AZP4620面议(2)面议其他能源--
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项目编号:HKUSTGZ-24-BG004933、项目名称:科研用光刻胶竞价二、更正(澄清)内容1、原竞价公告采购截止时间由“2024年5月14日
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项目基本信息1、项目编号:HKUSTGZ-24-BG004932、项目名称:科研用光刻胶竞价3、采购方式:网上竞价4、项目类别:货物二、供应商的资格要求1
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---西安电子科技大学广州研究院申购单主题:电子束光刻胶采购申购单位:广州研究院申购备注:设备名称品牌型号数量报价类型售后服务95
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5-8采购内容:沈阳中化新材料科技有限公司(以下简称“采购人”)对“100t光刻胶、1000t内层胶、2t光甘草定生产线建设项目环境预评价报告项目”(以下简称“本项目”)采用询价方式进行采购
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5-8采购内容:沈阳中化新材料科技有限公司(以下简称“采购人”)对“100t光刻胶、1000t内层胶、2t光甘草定生产线建设项目职业危害预评价报告项目”(以下简称“本项目”)采用询价方式进行采购
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5-8采购内容:沈阳中化新材料科技有限公司(以下简称“采购人”)对“100t光刻胶、1000t内层胶、2t光甘草定生产线建设项目设立安全评价报告项目”(以下简称“本项目”)采用询价方式进行采购
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采购项目:光刻胶2、中标供应商XXX3、公示期内如对结果存在异议,中电科技德清华莹电子有限公司提出,逾期将不再受理。联系人:金老师联系电话:0572
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器件失效分析以及逆向产品开发中属于关键核心设备。扫描电镜可以对光刻胶的截面形貌和几何尺寸进行测量,对体硅结构的表征分析及刻蚀缺陷进行测量
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品目3设备名称:硫酸去胶湿台设备数量:1台设备用途:本设备适用于八寸晶圆光刻胶去除清洗工艺,采用H2SO4、H2O2和NH4OH溶液通过化学反应达到光刻胶去除
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UV固胶机设备数量:1台设备用途:主要用于对8英寸MEMS工艺中金属刻蚀前光刻胶固化工艺。资金到位或资金来源落实情况:资金已到位项目已具备招标条件的说明
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现邀请合格投标人参加投标。招标条件1.1项目概况:大尺寸曲面光学元件凹面的光刻胶喷涂,满足光刻胶层厚度10μm时厚度均匀性优于20%的要求
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光刻胶发布单位:中电科技德清华莹电子有限公司发布时间:2024/4/30项目概况:因科研生产需要,采购光刻胶一批投标人资格条件
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项目基本情况1、项目编号:HKUSTGZ-24-BG004372、项目名称:科研用光刻胶竞价3、采购方式:网上竞价二、成交结果1、成交供应商:苏州锐材半导体有限公司2
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器件失效分析以及逆向产品开发中属于关键核心设备。扫描电镜可以对光刻胶的截面形貌和几何尺寸进行测量,对体硅结构的表征分析及刻蚀缺陷进行测量
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品目3设备名称:硫酸去胶湿台设备数量:1台设备用途:本设备适用于八寸晶圆光刻胶去除清洗工艺,采用H2SO4、H2O2和NH4OH溶液通过化学反应达到光刻胶去除
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CR105592024001085成交总额:1800申购主题:光刻胶送货时间:发布竞价结果后7天内送达采购单位:暨南大学安装要求
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十六化建第五分公司信联电子材料科技股份有限公司1500吨/年光刻胶及3000吨/年光刻胶配套试剂项目(一期)十六公司-信联电子材料科技股份有限公司1500吨年光
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南京国兆光电科技有限公司发布时间:2024/4/26项目概况:因科研生产需要,采购正性光刻胶等一批投标人资格条件:需为国兆光电合格供方并满足国兆光电项目使用需求
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45:48截止时间:2024-04-2815:55:41基本信息:申购主题:光刻胶报价要求:国产含税发票类型:增值税普通发票付款方式:货到验收合格后付款送货时间
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丙类库等,建设微纳光学元器件生产项目。VCSEL芯片生产工艺:GaN衬底-光刻胶涂布-曝光-检查-显影-酸洗-蒸镀(Au、Ti、Pt)-金属剥离-台面蚀刻-去胶
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项目基本信息1、项目编号:HKUSTGZ-24-BG004372、项目名称:科研用光刻胶竞价3、采购方式:网上竞价4、项目类别:货物二、供应商的资格要求1
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项目编号:TC240H0XC(招标文件编号:TC240H0XC)二、项目名称:研制光刻胶材料性能等测试评价方法三、中标(成交)信息供应商名称:TCL华星光电技术有限公司
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徐州大晶新材料科技集团有限公司年产4500吨光刻胶项目中选公告【发布时间:2024-04-2316:30:26】我单位于2024-04-2316:30:26
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WB202404240001项目基本信息项目名称:徐州大晶新材料科技集团有限公司年产4500吨光刻胶项目项目代码:项目总投资额:0万元项目地址:建设内容
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本次招标采用线下招标方式,现邀请合格投标人参加投标。招标条件1.1项目概况:涂布有光刻胶的曲面光学元件的激光直写曝光,具有在曲面光学元件上进行图形激光直写曝光的能力
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现邀请合格投标人参加投标。招标条件1.1项目概况:大尺寸曲面光学元件凹面的光刻胶喷涂,满足光刻胶层厚度10μm时厚度均匀性优于20%的要求
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十六化建第五分公司信联电子材料科技股份有限公司1500吨/年光刻胶及3000吨/年光刻胶配套试剂项目(一期)十六公司-信联电子材料科技股份有限公司1500吨年光
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器件失效分析以及逆向产品开发中属于关键核心设备。扫描电镜可以对光刻胶的截面形貌和几何尺寸进行测量,对体硅结构的表征分析及刻蚀缺陷进行测量
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品目3设备名称:硫酸去胶湿台设备数量:1台设备用途:本设备适用于八寸晶圆光刻胶去除清洗工艺,采用H2SO4、H2O2和NH4OH溶液通过化学反应达到光刻胶去除