ALD原子层沉积系统-深圳大学-竞价公告(CB105902024000489)
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深圳大学 - 竞价公告 (CB105902024000489)
发布时间：2024-05-10 17:25:22 截止时间：2024-05-17 12:00:00
基本信息：
申购主题：ALD原子层沉积系统
报价要求：国产含税
发票类型：增值税专用发票
付款方式：货到验收合格后付款
送货时间：合同签订后7天内送达
安装要求：免费上门安装（含材料费）
预算：199,980.00 人民币
收货地址：广东省/深圳市/南山区/****
供应商资质：
备注说明：
采购明细：
| 序号 | 数量/单位 | 预算单价 | 品牌 | 型号 | 规格参数 | 质保及售后服务 | 附件 |
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| 1 | ALD原子层沉积系统 | 1/套 | 登录即可免费查看 | 普迪真空 | ALD-T100Q | 1、真空腔室：6061 铝阳极氧化处理，腔室内尺寸Φ200×10 mm； 2、真空系统：双极旋片油泵，抽速度不小于 16 m3/h；气动真空阀门+耐污染薄膜真空计； 3、极限真空：系统极限优5.0×10-3Torr，系统真空漏率小于 5*10-10 Pa.m3/s； 4、样品台尺寸：4 英寸样品托，兼容 4 inch 及以下样品尺寸； 5、样品台温度：4英寸内样品表面加热温度最高可达300℃，温度控制精度±0.5℃； 6、前驱体路数：3路可加热至200℃的金属驱体源和1路水以及臭氧前驱体源； 7、吹扫管道：2路质量流量计控制前驱体源吹扫管道，分别吹扫金属前驱体源和水前驱体源管道； 8、生长模式：连续和停留沉积模式选择； 9、控制系统：PLC+工控机+触摸屏人机交互界面； 10、电源功率：50-60Hz，380VAC /20A交流电源； 11、沉积非均匀性：在4inch硅片上，沉积500ycle氧化铝非均匀性<±1%； 12、仪器尺寸：780mm x 750 mm x 1100 mm（长*宽*高）； 13、可沉积材料种类：SiO2、TiO2、SnO、FeO、CoO、NiO、Al2O3、ZnO、HfO2、ZrO2、MgO等 | 按行业标准提供服务 |
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